서브메뉴
검색
Details
D.C.Magnetron Reactive Sputtering법으로 증착한 PbTiO₃ 박막의 열처리에 따른 c-축 배향성의 변화
D.C.Magnetron Reactive Sputtering법으로 증착한 PbTiO₃ 박막의 열처리에 따른 c-축 배향성의 변화
Detailed Information
MARC
008011106c1996 ulka a kor■020 ▼a10485104
■245 ▼aD.C.Magnetron Reactive Sputtering법으로 증착한 PbTiO₃ 박막의 열처리에 따른 c-축 배향성의 변화▼d이승현▼e권순용▼e최한메▼e최시경
■260 ▼a서울▼b한국요업학회▼c1996
■300 ▼app.802
■653 ▼aD.C.Magnetron▼aReactive▼aSputtering법▼a증착▼aPbTiO₃▼a박막▼a열처리▼ac-축▼a배향성▼a변화
■700 ▼a이승현
■700 ▼a권순용
■700 ▼a최한메
■700 ▼a최시경
■773 ▼t요업학회지▼gvol.33,no.7(170)▼d1996, 07
■SIS ▼aS003770▼b30305▼h4▼s2
Preview
Export
ChatGPT Discussion
AI Recommended Related Books
ค้นหาข้อมูลรายละเอียด
- จองห้องพัก
- ไม่อยู่
- ยืมหนังสือขอ
- โฟลเดอร์ของฉัน
- ขอดูแรก
| Reg No. | Call No. | ตำแหน่งที่ตั้ง | สถานะ | ยืมข้อมูล |
|---|---|---|---|---|
| AR83700 | 연속간행물실 | My Folder |
* จองมีอยู่ในหนังสือยืม เพื่อให้การสำรองที่นั่งคลิกที่ปุ่มจองห้องพัก
