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Avalanche Electron Trapping에 의한 SiO2 Layer 및 Si-SiO2 Interface 연구
Avalanche Electron Trapping에 의한 SiO2 Layer 및 Si-SiO2 Interface 연구
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MARC
008040915s1997 ULKa a KOR■245 ▼aAvalanche Electron Trapping에 의한 SiO2 Layer 및 Si-SiO2 Interface 연구▼d한병국
■260 ▼a경산시▼b경산대학교▼c1997.
■300 ▼app. 297-306
■653 ▼aAVALANCHE▼aELECTRON▼aTRAPPING▼aLAYER▼aINTERFACE
■700 ▼a한병국
■773 ▼t논문집 - 경산대학교▼g1997년 12월 (제15집)▼d1997, 08
■URL ▼ahttp://library.dhu.ac.kr/
■SIS ▼aS023635▼b216809▼h3▼s2▼fD


