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n형 GaAs기관의 sulfur 처리에 따른 RuO2 쇼트키 접촉장벽의 특성
n형 GaAs기관의 sulfur 처리에 따른 RuO2 쇼트키 접촉장벽의 특성
Detailed Information
MARC
008030609s1995 ULKa a KOR■245 ▼an형 GaAs기관의 sulfur 처리에 따른 RuO2 쇼트키 접촉장벽의 특성▼d손맹호▼e정순필
■260 ▼a서울▼b경기대학교▼c1995.
■300 ▼app. 447-457
■653 ▼aGAAS▼aSULFUR▼a쇼트키▼a접촉장벽
■700 ▼a손맹호
■700 ▼a정순필
■773 ▼t논문집-경기대학교▼g1995년 1월 (제36집)▼d1995, 06
■URL ▼ahttp://library.kyonggi.ac.kr/
■SIS ▼aS019859▼b376▼h3▼s2▼fD


