서브메뉴
검색
Details
실리카 광도파로용 SiON 후막 특성에서RF Power와 SiH4/(N2O+N2) Ratio가 미치는 영향
실리카 광도파로용 SiON 후막 특성에서RF Power와 SiH4/(N2O+N2) Ratio가 미치는 영향
Detailed Information
MARC
008020115s2001 ulkaILa kor■022 ▼a12297801
■245 ▼a실리카 광도파로용 SiON 후막 특성에서RF Power와 SiH4/(N2O+N2) Ratio가 미치는 영향▼d김용탁▼e조성민▼e서용곤▼e임영민▼e윤대호
■260 ▼a서울▼b한국세라믹학회▼c2001.
■300 ▼app. 1150
■653 ▼a실리카▼a광도파로용▼aSION▼a후막▼a특성▼aPOWER▼aSIH4N2ON2▼aRATIO
■700 ▼a김용탁
■700 ▼a조성민
■700 ▼a서용곤
■700 ▼a임영민
■700 ▼a윤대호
■773 ▼t한국세라믹학회지▼g2001년 12월 (제38권 12호)▼d2001, 12
■SIS ▼aS013798▼b64638▼h1▼s2▼fP
■URL ▼ahttp://www.society.kordic.re.kr
Preview
Export
ChatGPT Discussion
AI Recommended Related Books
Подробнее информация.
- Бронирование
- не существует
- Книга оказать запросу
- моя папка
- Первый запрос зрения
| Reg No. | Количество платежных | Местоположение | статус | Ленд информации |
|---|---|---|---|---|
| AR169670 | 연속간행물실 | My Folder |
* Бронирование доступны в заимствований книги. Чтобы сделать предварительный заказ, пожалуйста, нажмите кнопку бронирование


