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실리카 광도파로용 SiON 후막 특성에서RF Power와 SiH4/(N2O+N2) Ratio가 미치는 영향
실리카 광도파로용 SiON 후막 특성에서RF Power와 SiH4/(N2O+N2) Ratio가 미치는 영향 / 김용탁 ...
실리카 광도파로용 SiON 후막 특성에서RF Power와 SiH4/(N2O+N2) Ratio가 미치는 영향

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자료유형  
 보고서
ISSN  
12297801
서명/저자  
실리카 광도파로용 SiON 후막 특성에서RF Power와 SiH4/(N2O+N2) Ratio가 미치는 영향 / 김용탁 ; 조성민 ; 서용곤 ; 임영민 ; 윤대호
발행사항  
서울 : 한국세라믹학회, 2001.
형태사항  
pp. 1150
키워드  
실리카 광도파로용 SION 후막 특성 POWER SIH4N2ON2 RATIO
기타저자  
김용탁
기타저자  
조성민
기타저자  
서용곤
기타저자  
임영민
기타저자  
윤대호
기본자료저록  
한국세라믹학회지 : 2001년 12월 (제38권 12호) 2001, 12
모체레코드  
모체정보확인
URL  
http://www.society.kordic.re.kr
Control Number  
shingu:169670

MARC

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