서브메뉴
검색
상세정보
실리카 광도파로용 SiON 후막 특성에서RF Power와 SiH4/(N2O+N2) Ratio가 미치는 영향
실리카 광도파로용 SiON 후막 특성에서RF Power와 SiH4/(N2O+N2) Ratio가 미치는 영향
상세정보
MARC
008020115s2001 ulkaILa kor■022 ▼a12297801
■245 ▼a실리카 광도파로용 SiON 후막 특성에서RF Power와 SiH4/(N2O+N2) Ratio가 미치는 영향▼d김용탁▼e조성민▼e서용곤▼e임영민▼e윤대호
■260 ▼a서울▼b한국세라믹학회▼c2001.
■300 ▼app. 1150
■653 ▼a실리카▼a광도파로용▼aSION▼a후막▼a특성▼aPOWER▼aSIH4N2ON2▼aRATIO
■700 ▼a김용탁
■700 ▼a조성민
■700 ▼a서용곤
■700 ▼a임영민
■700 ▼a윤대호
■773 ▼t한국세라믹학회지▼g2001년 12월 (제38권 12호)▼d2001, 12
■SIS ▼aS013798▼b64638▼h1▼s2▼fP
■URL ▼ahttp://www.society.kordic.re.kr
미리보기
내보내기
chatGPT토론
Ai 추천 관련 도서
소장정보
- 예약
- 서가에 없는 책 신고
- 대출신청
- 나의폴더
- 우선정리요청
| 등록번호 | 청구기호 | 소장처 | 대출가능여부 | 대출정보 |
|---|---|---|---|---|
| AR169670 | 연속간행물실 | 마이폴더 |
* 대출중인 자료에 한하여 예약이 가능합니다. 예약을 원하시면 예약버튼을 클릭하십시오.


