자료유형  

 보고서

ISSN  

12297801

서명/저자  

PECVD법에 의해 증착된 SiO2 후막 특성에서 N2O/SiH4 Flow Ratio와 RF Power가 미치는 영향 / 조성민 ; 김용탁 ; 서용곤 ; 임영민 ; 윤대호

발행사항  

서울 : 한국세라믹학회, 2001.

형태사항  

pp. 1037

키워드  

PECVD SIO2 증착 후막 Flow Ratio RF Power

기타저자  

조성민

기타저자  

김용탁

기타저자  

서용곤

기타저자  

임영민

기타저자  

윤대호

기본자료저록  

한국세라믹학회지 : 2001년 11월 (제38권 11호) 2001, 11

모체레코드  

모체정보확인

URL  

http://society.kordic.re.kr/~kcs

Control Number  

shingu:152633