서브메뉴
검색
Details
Effect of Dopants on Cobalt Silicidation Behavior at Metal-oxide-semiconductor Field-effect Transistor Sidewall Spacer Edge
Effect of Dopants on Cobalt Silicidation Behavior at Metal-oxide-semiconductor Field-effect Transistor Sidewall Spacer Edge
Detailed Information
- 자료유형
- 보고서
- ISSN
- 12297801
- 서명/저자
- Effect of Dopants on Cobalt Silicidation Behavior at Metal-oxide-semiconductor Field-effect Transistor Sidewall Spacer Edge / Jong-Chae Kim ; Yeong-Cheol Kim ; Byung-Kook Kim
- 발행사항
- 서울 : 한국세라믹학회, 2001.
- 형태사항
- pp. 871
- 키워드
- EFFECT DOPANTS COBALT SILICIDATION BEHAVIOR METALOXIDESEMICONDUCTOR FIELDEFFECT TRANSISTOR SIDEWALL SPACER EDGE
- 기타저자
- Jong-Chae Kim
- 기타저자
- Yeong-Cheol Kim
- 기타저자
- Byung-Kook Kim
- 모체레코드
- 모체정보확인
- Control Number
- shingu:131674
MARC
008011115s2001 ulkaILa kor■022 ▼a12297801
■245 ▼aEffect of Dopants on Cobalt Silicidation Behavior at Metal-oxide-semiconductor Field-effect Transistor Sidewall Spacer Edge▼dJong-Chae Kim▼eYeong-Cheol Kim▼eByung-Kook Kim
■260 ▼a서울▼b한국세라믹학회▼c2001.
■300 ▼app. 871
■653 ▼aEFFECT▼aDOPANTS▼aCOBALT▼aSILICIDATION▼aBEHAVIOR▼aMETALOXIDESEMICONDUCTOR▼aFIELDEFFECT▼aTRANSISTOR▼aSIDEWALL▼aSPACER▼aEDGE
■700 ▼aJong-Chae Kim
■700 ▼aYeong-Cheol Kim
■700 ▼aByung-Kook Kim
■773 ▼t한국세라믹학회지▼g2001년 10월 (제38권 10호)▼d2001, 10
■SIS ▼aS013269▼b64638▼h1▼s2▼fP
■URL ▼ahttp://www.society.kordic.re.kr/~kcs
Preview
Export
ChatGPT Discussion
AI Recommended Related Books
Подробнее информация.
- Бронирование
- не существует
- Книга оказать запросу
- моя папка
- Первый запрос зрения
| Reg No. | Количество платежных | Местоположение | статус | Ленд информации |
|---|---|---|---|---|
| AR131674 | 연속간행물실 | My Folder |
* Бронирование доступны в заимствований книги. Чтобы сделать предварительный заказ, пожалуйста, нажмите кнопку бронирование
