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신구대학교 학술정보원
  • 도서명 : Effects of Ti and Ti
    N Capping Layers on Cobalt-silicided MOS Device Characteristics in Embedded DRAM and Logic
  • 저 자 : Jong-Chae Kim
  • 청구기호 :
  • 소장처 :연속간행물실
  • 대출요구사항 :