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신구대학교 학술정보원
  • 도서명 : 실리카 광도파로용 SiON 후막 특성
    에서RF Power와 SiH4/(N2O+N2) Ratio가 미치는 영향
  • 저 자 : 김용탁
  • 청구기호 :
  • 소장처 :연속간행물실
  • 대출요구사항 :