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신구대학교 학술정보원
  • 도서명 : PECVD법에 의해 증착된 SiO2
    후막 특성에서 N2O/SiH4 Flow Ratio와 RF Power가 미치는 영향
  • 저 자 : 조성민
  • 청구기호 :
  • 소장처 :연속간행물실
  • 대출요구사항 :